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Q & A

Q1、見積を依頼したいのですが・・・。

A、下記メールアドレスか電話番号へお問い合わせ下さい。

メールアドレス
info@iontc.co.jp

TEL
072-859-6601

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Q2、注入可能なイオン種を教えてください。

A、B、P等一般的なドーパント以外に、Al、F、Siなど60種類以上の原子が注入可能です。
詳しくは対応イオン種表をご覧ください。

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Q3、高温注入とはどのようなものでしょうか。

A、高温イオン注入は、パワーデバイス用途として注目される「SiC」などの化合物半導体に適しており、パワーエレクトニクスや環境エネルギーの分野への新たな展開へとつながる技術です。高温注入することによって、半導体への注入ダメージを緩和することができるといわれています。
弊社では、室温から600度までの温度に対応しております。

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Q4、イオン注入後、高温アニール処理もできますか。

A、SiCの活性化に必要な1600℃以上の高温アニールも可能です。
最高1800℃までの設定が可能です。

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Q5、イオン注入サンプルは、フルウエハ以外も対応可能でしょうか。

A、小片チップひとつから12インチウェハまで、幅広いサイズ対応を行っています。
半導体ウェハ以外のサンプルについても御相談下さい。(高温注入は6インチまでの対応となります。)

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Q6、高エネルギーでの注入をしたいのですが・・・。

A、弊社では、8MeVまでの注入装置を完備。
世界でも数社しか技術を持たない高エネルギーイオン注入が可能です。

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Q7、分析をしたいのですが、どの装置がいいのか教えてください。

A、弊社技術営業部まで、直接お問合わせください。最適な分析手法や装置をご提案させていただきます。
【技術営業部】

TEL:072-859-6601
FAX:072-859-5770
E-mail:info@iontc.co.jp

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Q8、分析に立会いたいのですが・・・。

A、弊社では、お客様に立ち会っていただき、
その場で分析条件の設定から最終結果までを確認していただくことが可能です。

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Q9、納期はどのくらいでしょうか。

A、基本的には、イオン注入で約1週間、分析で1~2週間お時間をいただいておりますが、
条件により迅速に対応できる場合がございます。ご相談くださいませ。

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Q10、サンプルなどの情報が他社へ漏れては困るのですが・・・。

A、弊社はお客様から得た情報を第三者へ漏洩しないよう周知徹底し遵守しております。
(※ご希望によっては、秘密保持契約を結んでおります)
また、独立した注入・分析会社ですので、機密事項が系列の会社にわたってしまう心配がありません。

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