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Q & A

Q1、見積を依頼したいのですが・・・。

A、お電話もしくはE-mailにてお問合せ下さい。

メールアドレス:
info@iontc.co.jp

下記ページからのお問い合わせも可能です。
https://iontc.co.jp/contact/

TEL
072-859-6601(技術営業部)

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Q2、注入可能なイオン種を教えてください。

A、B、P等一般的なドーパント以外に、Al、F、Siなど60種類以上の原子が注入可能です。
詳しくは対応イオン種表をご覧ください。

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Q3、高温注入とはどのようなものでしょうか。

A、高温イオン注入は、パワーデバイス用途として注目される「SiC」などの化合物半導体に適しており、パワーエレクトニクスや環境エネルギーの分野への新たな展開へとつながる技術です。高温注入することによって、半導体への注入ダメージを緩和することができるといわれています。
弊社では、室温から600度までの温度に対応しております。

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Q4、イオン注入後、高温アニール処理もできますか。

A、SiCの活性化に必要な1600℃以上の高温アニールも可能です。
最高1800℃までの設定が可能です。

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Q5、イオン注入サンプルは、フルウエハ以外も対応可能でしょうか。

A、SiやSiC、GaN等の化合物半導体に対応、サイズは小片チップひとつから12インチウエハまで対応可能です。
半導体ウエハ以外の材料や高温注入のサンプルサイズについてはお問い合わせ下さい。

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Q6、高エネルギーでの注入をしたいのですが・・・。

A、弊社では、8MeVまでの注入装置を完備。
世界でも数社しか技術を持たない高エネルギーイオン注入が可能です。

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Q7、分析をしたいのですが、どの装置がいいのか教えてください。

A、弊社技術営業部まで、直接お問い合わせ下さい。最適な分析手法や装置をご提案させていただきます。
【技術営業部】

TEL:072-859-6601

メールアドレス:
info@iontc.co.jp

お問い合わせページ
https://iontc.co.jp/contact/

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Q8、分析に立会いたいのですが・・・。

A、弊社では、お客様に立ち会っていただき、
その場で分析条件の設定から最終結果までを確認していただくことが可能です。

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Q9、納期はどのくらいでしょうか。

A、基本的には、イオン注入で約1週間、分析で1~2週間お時間をいただいておりますが、
条件により迅速に対応できる場合がございます。ご相談くださいませ。

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Q10、サンプルなどの情報が他社へ漏れては困るのですが・・・。

A、弊社はお客様から得た情報を第三者へ漏洩しないよう周知徹底し遵守しております。
(※ご希望によっては、秘密保持契約を結んでおります)
また、独立した注入・分析会社ですので、機密事項が系列の会社にわたってしまう心配がありません。

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Q11、イオン注入とは?

A、イオン注入とはイオン化した物質を固体に注入することによって、その固体の特性を変化させる加工方法です。
半導体製造における前工程などでは、イオン注入を用いることによって、ウエハに適度な不純物を導入することができ、半導体デバイス特性を向上させることができます。
詳細は https://iontc.co.jp/ion_injection/#page_top をご参照下さい。

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Q12、イオン注入受託加工サービスとは?

A、お預かりしたウエハ(サンプル)に、イオン注入加工を行うサービスです。
デバイスの途中工程でも可能です。

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Q13、イオン注入時のメリットとは?

A、不純物を添加する方法での拡散法に比べて、分布や接合の深さなどを精密に制御できます。

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Q14、アモルファスとは?

A、結晶のような規則正しい原子配列をもたない状態。 イオン注入を行うとアモルファス化します。

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Q15、自社で行うのに比べて、イオン注入を外部委託するメリットは何ですか?

A、装置のメンテナンスが不要であり、注入開始~終了までのリードタイムを短縮する事ができます。

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Q16、イオン注入の外部委託を検討したいと思います。どうすればよいですか?

A.お電話もしくは下記お問合せページからご連絡下さい。
  https://iontc.co.jp/contact/

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Q17、チャネリングとは?

A、エネルギーを持ったイオンを結晶サンプル中に注入したとき、特定の方位に沿って深く注入されること。

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Q18、注入条件のシミュレーション計算は可能ですか?

A、イオン注入のプロファイルのシミュレーションは可能です。

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Q19、注入後のアニールは可能ですか?

A、最大1800度までのアニール処理が可能です。

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Q20、高ドーズ量のイオン注入は可能ですか?

A、実績で16乗のオーダーもあります。

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Q21、ウエハの表面に、コーティングが有っても注入できますか?

A、コーティング膜種によりますため、詳細はお問い合わせ下さい。

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Q22、イオン注入後の物性などの測定は可能ですか?

A、シート抵抗測定やSIMS分析等が可能です。

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Q23、イオン注入ができない試料はありますか?

A、大きな試料や、汚染の著しい試料は注入装置内へ投入する事ができません。詳細はお問い合わせ下さい。

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Q24、イオン注入を立ち合いで確認することはできますか?

A、対応可能です。

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Q25、イオン注入装置の種類は、何がありますか?

A、中電流のイオン注入装置と高エネルギー対応の装置があります。

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Q26、イオン注入をお願いしたいのですが、どの装置がいいのか教えてください。

A、注入条件により、最適な注入装置をご提案致します。

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Q27、複数の注入条件で行う多段注入(ボックスプロファイル)は可能ですか?

A、可能です。

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Q28、希望のイオン注入の深さ、注入量(ドーズ量)などから 注入条件を決めてもらうことはできますか?

A、シミュレーションにより注入条件をご提案する事ができます。

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Q29、イオン注入時の角度を指定することはできますか?

A、注入角は0~60度、回転角は0~359度の範囲で指定可能です。

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Q30、試料のコンタミ対策はどうしていますか?

A、イオン注入作業はクリーンルーム内にて行っております。

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Q31、アニール処理だけの依頼もできますか?

A、可能です。

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Q32、イオン注入前後の他工程では 何が依頼可能ですか?

A、イオン注入前の保護膜形成や、イオン注入後の活性化アニール等、様々な工程に対応しております。

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Q33、できるだけ浅い注入、低エネルギーの注入をしたいのですが、どの程度まで可能ですか?

A、イオン種にもよりますが、最小5keVまでの注入が可能です。

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Q34、イオン注入、アニール、成膜などの検査結果はどのような形でもらえますか?

A、データシート形式で、処理済のサンプルと共に納品致します。

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Q35、料金はどれくらいかかりますか?

A、仕様、条件によって異なります。詳細はお問い合わせ下さい。

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Q36、料金はどのように支払うのですか?

A、検収翌月末までに現金にてお支払い下さい。

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Q37、試料はどのようにお送りすればよろしいでしょうか?

A、輸送中の破損を防ぐため箱内を梱包材で保護し、宅急便にてお送り下さい。

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