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title: 2025.7.6-11  開催の第15回 窒化物半導体国際会議（ICNS-15）にてポスター発表を行います。
description: イオンテクノセンターは「イオン注入」「物理分析」および研究開発におけるコンサルティングや技術開発サポートなどを行うプロフェッショナル集団です。最先端の技術と設備を備えた時代の求める創造的ラボラトリーとして企業や大学研究者の方々の良きパートナーを目指しています。
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[ニュース ](https://iontc.co.jp/news)

# [2025.7.6-11  開催の第15回 窒化物半導体国際会議（ICNS-15）にてポスター発表を行います。](https://iontc.co.jp/news/2025.7.6-11-開催のicns-15マルメ-スウェーデンにてポスター発表を行います-)

 作成者: [イオンテクノセンター](https://iontc.co.jp/news/author/イオンテクノセンター)｜Jun 6, 2025 5:33:15 AM

<https://annex.jsap.or.jp/adps/scrm10/><https://icns14.jp/>

 

イオンテクノセンターは、

　第15回 窒化物半導体国際会議（ICNS-15：15th International Conference on Nitride Semiconductors）にて

　GaN(0001)へのMgチャネリング注入に関するポスター発表を行います。

 

【開催期日】  
　　2025年7月6日(日)～11日(金）　

 

【開催地】  
　　・マルメ (スウェーデン) 

 

【発表日時】  
　　・2025年7月8日(火) 　17:00～19:00 

【タイトル】

　　・Effects of Tilt Angle and Dose on Mg Channeled Implantation into GaN(0001)

 【学会HP】

　　・[https://mkon.nu/icns-15](https://mkon.nu/icns-15)<https://meeting.jsap.or.jp/><https://meeting.jsap.or.jp/venue_access>

☆発表内容☆  
 弊社では、今まで培ってきたイオン注入やシミュレーション技術を活かして、チャネリング注入に関する研究に取り組んでおり、当日はGaN(0001)へのMgチャネリング注入における傾斜角と注入量の影響についてご紹介をさせていただきます。 

 

 

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