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2026.5.24-28  開催のCSW2026 (Compound Semiconductor Week)にて口頭発表を行います。

作成者: イオンテクノセンター|May 20, 2026 5:06:47 AM

イオンテクノセンターは、CSW2026 (Compound Semiconductor Week)にて、GaN(0001)へのMgチャネリング注入に関する口頭発表を行います。

 

【開催期日】
  2026年5月24日(日)~28日(木) 

 

【開催地】
  ・熊本城ホール (熊本) 

 

【発表日時】
  ・2026年5月28日(木)  11:30~11:45

【タイトル】

  ・Channeled implantation of Mg ions into homoepitaxial and heteroepitaxial GaN(0001)

 【学会HP】

  ・https://csw-jpn.org/


☆発表内容☆
 弊社では、今まで培ってきたイオン注入やシミュレーション技術を活かして、チャネリング注入に関する研究に取り組んでおります。当日はGaN(0001)へのMgチャネリング注入における傾斜角や注入量、更には転位が及ぼす影響についてご紹介をさせていただきます。