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title: 2026.5.24-28  開催のCSW2026 (Compound Semiconductor Week)にて口頭発表を行います。
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# [2026.5.24-28  開催のCSW2026 (Compound Semiconductor Week)にて口頭発表を行います。](https://iontc.co.jp/news/2026.5.24-28-開催のcsw2026-compound-semiconductor-weekにて口頭発表を行います-)

 作成者: [イオンテクノセンター](https://iontc.co.jp/news/author/イオンテクノセンター)｜May 20, 2026 5:06:47 AM

<https://csw-jpn.org/>

イオンテクノセンターは、CSW2026 (Compound Semiconductor Week)にて、GaN(0001)へのMgチャネリング注入に関する口頭発表を行います。

 

【開催期日】  
　　2026年5月24日(日)～28日(木）　

 

【開催地】  
　　・熊本城ホール (熊本) 

 

【発表日時】  
　　・2026年5月28日(木) 　11:30～11:45

【タイトル】

　　・Channeled implantation of Mg ions into homoepitaxial and heteroepitaxial GaN(0001)

 【学会HP】

　　・[https://csw-jpn.org/](https://csw-jpn.org/) <https://meeting.jsap.or.jp/><https://meeting.jsap.or.jp/venue_access>

☆発表内容☆  
 弊社では、今まで培ってきたイオン注入やシミュレーション技術を活かして、チャネリング注入に関する研究に取り組んでおります。当日はGaN(0001)へのMgチャネリング注入における傾斜角や注入量、更には転位が及ぼす影響についてご紹介をさせていただきます。  
 

 

 

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