皆様のご来場を心よりお待ちしております。
【開催期日】2019年12月3日(火) ～ 12月4日(水)
【開催場所】広島国際会議場>
広島国際会議場へのアクセス
【企業展示】
2019年12月3日(火) 10：00～18：00
2019年12月4日(水) 9：00～16：00
ブース番号： E42
☆主なご案内内容☆
・イオン注入から成膜、その他工程の受託サービス
・弊社の受託分析サービス
・新注入装置のご案内
※イオン注入＆受託分析などについて詳しく丁寧にご説明させていただきます。
【インダストリアルセッション】
2019年12月3日（火） 13：40～14：10（第一部 IS-5）
『化合物半導体における高温イオン注入評価』について発表致します。