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title: 【2016.10.26】新規導入装置（デュアルビームFIB加工及び走査電子顕微鏡）のご紹介
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# 【2016.10.26】新規導入装置（デュアルビームFIB加工及び走査電子顕微鏡）のご紹介

2016.09.26

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イオンテクノセンターは10月に新たに  
**「デュアルビームFIB加工及び走査電子顕微鏡」**を導入致しました。

今までご利用頂いておりましたFIBに加えてSEM、STEMも搭載しておりますので、より一層高精細な加工、観察が可能となり、且つスピーディーな対応が可能となりました。

【装置】　　　DualBeam FIB  
【メーカー】　FEI社  
【型式】　　　Helios400S  
【特徴】  
FIB機能に加えてFE-SEM、STEMを搭載しており精度良く、且つ高解像の観察が可能となります。  
　・FE-SEMを搭載しているためFIB加工後の断面を高分解能で即観察可能。  
　・FIB加工においては自動加工が可能となりスピーディーな対応可能  
　・STEM(30keV)を搭載しているため、加工後大気開放せず観察可能  
　・FIBとSEMによりスライス＆ビューにより3D観察が可能

☆FIBとは？  
FIBとは細く集束したイオンビームを試料表面で走査することにより、試料表面を加工することや、発生した二次電子などを検出し観察することが可能な装置です。  
利用用途としては、SEM用の断面試料作製あるいはTEM、STEM観察用の薄片化試料作製に多用されます。  
また、弊社導入装置にはFIBと合わせてFE-SEMやSTEMが搭載されているため加工後すぐ、加工しながらの観察も可能です。

☆ご利用例  
　・半導体デバイスの断面SEM観察（左中図参照）  
　・高品質な断面試料作製（左下図参照）

 

 

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