イオン注入サービストップ

研究開発サポートから少量量産まで、幅広く対応しております。機密保持はもちろんのこと、短納期、臨機応変なスピーディーな対応が強みです。
イオン注入は形状の色味の変化もなく、目で見るだけでは判らないもの。私たちは「信頼」を大切にし、お客様のご期待に添うべく最適なサービスを確実に実施します。長年の実績と経験がその証です。

ITCのイオン注入

60種類以上のイオン種に対応

Si基板に使われるH,B,P,As等、SiC基板基板に使われるN,AI等、GaN基板に使われるFe,Mg,Si等、60種類以上のイオン種に対応しています。

多種多様な試料(基板)を扱えます

サイズは小片から大口径、種類もシリコン基板からSiC、GaN、Ga2O3等化合物半導体基板まで対応できます。
もちろんその他材料も、幅広く取り扱っています。

高温イオン注入

ダメージの緩和が期待できる高温イオン注入に対応しています。注入時設定温度は、室温〜600℃までとその幅広さが強みです。600℃でも、小片から6inchまで対応可能です。

高加速エネルギー注入

高加速エネルギーでの注入ができます。5keV~8MeV での対応が可能です。幅広いエネルギー領域での対応ができるのがITCの強みです。

注入イオン種

B、P、ASだけでなくAI、N原子など60種類以上の原子が注入可能です。

注入イオン種の図

加速エネルギー

幅広いエネルギー領域でのご対応が可能です。
 中電流装置 5〜750keV(3価イオン利用にて。イオン種によります。事前にご相談ください
 高エネルギー装置 〜8MeV(イオン種によります。事前にご相談ください

加速エネルギーの図

一括受託について

イオン注入、高温イオン注入、高温高速アニール、カーボンキャプ膜など
多様なサービスラインナップを有します。
また、上記の工程を一括で受注することも可能です。詳しくはお問い合わせください。

イオン注入装置の原理

  • 01

    イオン源

    目的とする元素のイオン発生
  • 02

    質量分析器

    多種類のイオンを質量と電荷の違いによって分離
  • 03

    分析スリット

    必要なイオンのみを選択し加速管にイオンを導入
  • 04

    加速管

    所定のエネルギーにイオンを加速
  • 05

    Qレンズ

    ビームを整形
  • 06

    走査器

    イオンビームをX,Y方向に走査
  • 07

    エンドステーション

    試料(基材)への注入

ホワイトペーパーダウンロード

イオン注入についての基礎知識をまとめた
「イオン注入の基礎知識」のダウンロードはこちらから

ホワイトペーパーの図

 

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主な取引先

半導体デバイスメーカー
自動車メーカー
半導体材料メーカー
半導体製造装置メーカー
大学関係
公的研究機関


など

サービス開始までの流れ

  • 01

    お問い合わせ

    ホームページのお問い合わせからご連絡ください
  • 02

    お打ち合わせ

    WEB、リアルとも対応しております
  • 03

    お見積り

    WEBまたはメールにてお見積りいたします
  • 04

    受託決定

    ご希望の時期に合わせて納期調整いたします
  • 05

    仕様書確定

    条件フィックスのために、仕様書(申込書)をまとめます
  • 06

    サンプル支給

    基本的に宅配便でのお取り扱いとなっております(別途ご希望がある場合はご相談ください)
  • 07

    イオン注入作業

    装置のスケジュールを予約して作業を進めます
  • 08

    出荷

    請求書、納品書と作業データを添えて、宅配便にて送付いたします

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