2026.3.15-18 第73回 応用物理学会春季学術講演会展示会 「JSAP EXPO Spring 2026」に出展致します。

株式会社イオンテクノセンターは第73回 応用物理学会春季学術講演会展示会「JSAP EXPO Spring 2026」に出展致します。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。

【開催日時】
　2026年3月15日(日)～17日(火)     9：30～18：00
                 3月18日(水)                        9：30～13：00

【開催場所】
　東京科学大学 大岡山キャンパス
　屋内運動場　P会場　PA（1F アリーナ）

【展示場所】
　小間No. 　6-16

　展示会へのご案内はこちら

　開催場所＆Access

【主なご案内内容】
　・イオン注入/物理分析サービスのご紹介
　・信頼性試験/不良解析サービスのご紹介
　・イオン注入・受託分析・信頼性試験に関する技術相談

当日は、担当者が直接ご説明し、課題解決に向けたご提案も可能です。
ぜひお気軽にお立ち寄りください。

【講演情報】
　転位密度がチャネリング注入におよぼす影響について　以下の内容で発表いたします。

【日時】
　2026年3月16日(月) 9：45～

【場所】
　東京科学大学 大岡山キャンパス
　W8E_101 (西8号館)

 【内容】
　一般セッション(口頭講演)にて
 
　13 半導体：13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価
　13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価
　[16a-W8E_101-2]

    GaN on sapphire基板へのMgイオンのチャネリング注入
    〇須山 篤志1,2、南川 英輝2、青木 正彦2、横田 一広2、須田 淳1(1.名大院工、2.イオンテクノセンター)