皆様のご来場を心よりお待ちしております。
【開催期日】 2019年8月6日（火） 12:30～17:00
【開催場所】 大阪産業創造館 3F・4F
会場へのアクセス
【ブース位置】 33
【ご案内内容】
１）ものづくりを支える物理分析について
２）ナノオーダーの膜厚測定および異物分析のご紹介
３）半導体前工程試作のご紹介
※イオン注入や受託分析などについて、ご相談含め最適手法をご提案させて頂きます。
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