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title: X線反射率法(XRR)｜株式会社イオンテクノセンター
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# X線反射率法（XRR）

## 原理概要

ウェハーに成膜した膜などに、X線をサンプル表面にすれすれに入射させ、反射してきたX線の強度変化から膜厚と膜の密度、  
表面・界面の粗さを求めることができます。下の原理イメージ図のように、膜の表面と界面で反射したX線の強度は膜厚の  
厚みにより変化します。また、X線の全反射を起こす臨界角を求めることにより、膜の密度と膜厚を同時に求めることが  
できます。 

## 原理イメージ図

![XRR原理イメージ図](https://iontc.co.jp/hs-fs/hubfs/Analysis%20Service/%E5%8E%9F%E7%90%86%E3%82%A4%E3%83%A1%E3%83%BC%E3%82%B8%E5%9B%B3/XRR%E5%8E%9F%E7%90%86%E3%82%A4%E3%83%A1%E3%83%BC%E3%82%B8%E5%9B%B3.png?width=600&height=263&name=XRR%E5%8E%9F%E7%90%86%E3%82%A4%E3%83%A1%E3%83%BC%E3%82%B8%E5%9B%B3.png)  
**XRRの測定原理図**

## 実測したXRRプロファイルの結果

実際に測定したXRRの結果を下図に示します。SiウェハーにDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜したサンプルを  
用いています。

測定されたプロファイル（青線）と、下図のモデルを用いてシミュレーション（赤線）したプロファイルが一致するように、  
モデルの各パラメータを変化させて、密度・膜厚・ラフネスを決定します。  
        ![XRR_2PNG](https://iontc.co.jp/hs-fs/hubfs/Analysis%20Service/%E5%8E%9F%E7%90%86%E3%82%A4%E3%83%A1%E3%83%BC%E3%82%B8%E5%9B%B3/XRR_2PNG.png?width=390&height=270&name=XRR_2PNG.png)![XRR_2_PNG](https://iontc.co.jp/hs-fs/hubfs/XRR_2_PNG.png?width=437&height=332&name=XRR_2_PNG.png)

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　　　           計算に用いた薄膜のモデル　　　　　       XRR測定プロファイルとシミュレーション**

 

## 応用例

薄膜の膜厚、密度評価の応用例としては下記があります。

・半導体デバイス：TaN, HfO2, Low-k膜, 各種ALD膜等

・光学デバイス：多層膜ミラー、フィルター等

・材料科学、薄膜材料：グラフェンやMoS2などの2次元材料 

## 特徴と欠点

＜特徴＞

1. 非破壊で分析可能 

2. 密度と膜厚が同時に測定可能 

3. 結晶でもアモルファスでも測定可能 

4. 数層程度の多層膜の評価 

5. 膜厚は数 nm ～ 300 nm 程度（材料によります）、密度のみなら膜厚不問 

＜欠点＞

1. 曲率のあるサンプルは不可 

2. ナノメートルオーダーの平坦な表面が必要

3. 測定範囲が数 mm 以上 

4. 類似の膜密度同士の組み合わせでは評価が困難

5. 大まかな組成、構造の情報が必要 

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