イオン注入とは？

イオン注入とはイオン化した物質を固体に注入することによって、その固体の特性を変化させる加工方法です。半導体製造における前工程などでは、イオン注入を用いることによって、ウェハに適度な不純物を導入することができ、半導体デバイス特性を向上させることができます。

イオン注入とは何か、もっと基礎理論を知りたい方はこちらのコラムをご覧ください。
⇨「イオン注入について」

イオン注入とは

イオン化された原子あるいは分子を、10KeV〜8MeV（当社例）に加速し、試料（基材）に打ち込むことにより、試料（基材）の性質を変えることができます。
加速電圧が高いほど注入エネルギーが高くなり、深く注入されます。2値に帯電したイオンを利用することにより、注入エネルギーが2倍となり、より深い部位への注入が可能となります。